打破日企壟(lǒng)斷隻是時間問題(tí)？東進半導體宣布(bu)與三星🚩成功研發(fa)EUV光刻膠

　　據韓媒etnews報(bao)道，韓國東進半導(dǎo)體與三星電子合(hé)作，成功開🈲發了超(chāo)細半導體加工必(bi)不可少的材料——極(jí)紫外(EUV)光🧡刻膠(PR)。EUV光刻(kè)膠是因其技術難(nan)度高而完全依賴(lai)國外的産品，此次(ci)韓國通過國内企(qǐ)業合作實現了國(guo)産化，意味着日企(qi)壟斷的打破。

 

東進(jin)半導體華城工廠(chang)鳥瞰圖，來源：etnews

 

　　12月13日(ri)，東進半導體宣布(bù)于近期通過了三(san)星電子的EUV光刻膠(jiao)可靠🚶‍♀️性測試，發布(bù)此消息後，截至12月(yue)13日上午11時45分，東進(jin)半導體股價較前(qian)一交易日上漲12.8%。

 

　　一(yī)位熟悉此事的業(yè)内人士表示，“東進(jin)半導體在其位于(yu)京畿道華城的工(gong)廠開發了 EUV光刻膠(jiāo)，并在三星電子的(de)華🧡城EUV生産線上對(duì)👣其進行了測試，并(bing)獲得了最終的可(ke)靠性認證。”

 

三星電(dian)子， 來源：etnews

　　光刻膠是(shi)半導體曝光工藝(yi)中的關鍵材料。它(tā)被施加在晶⭐片上(shàng)🌈，當用半導體曝光(guang)設備照射光時，會(hui)發生化學反⛷️應并(bing)改變物理特性。通(tōng)過用顯影劑沖洗(xǐ)掉來繪制微電路(lu)，隻留下必要的部(bù)分。

 

　　在韓國，用于KrF和(hé)ArF工藝的光刻膠已(yǐ)大量生産，但沒有(you)用🈲于可以繪制更(geng)精細電路的EUV光刻(ke)膠，大部分需要依(yi)賴日本進口🚶‍♀️。此外(wài)在2019年，日本與韓國(guó)爆發争議之👈後曾(ceng)經限制三種重要(yào)的半導✉️體材料對(duì)韓國的出口，EUV光刻(kè)膠♻️就是其中之一(yī)，爲此韓國公司也(ye)加快了EUV光刻膠的(de)研發，東進半導體(ti)也是其中🤩之一。

 

　　東(dōng)進半導體利用自(zi)有的基礎設施，如(ru)現有的ArF曝光機和(he)比♋利🥰時㊙️半導體研(yan)究所I MEC EUV設備，開始進(jìn)行EUV光刻膠國産化(hua)研❗發。

 

　　今年早些時(shí)候，其加強了EUV光刻(kè)膠專家并加速了(le)技術開發。此外，三(sān)星電子積極支持(chi)EUV測試環境，以達到(dào)可以在現💚場使⭐用(yong)的❤️質量水平。

 

　　目前(qián)尚不清楚三星電(dian)子是否會立即将(jiāng)東進半導🔴體EUV光刻(ke)💔膠投入半導體生(sheng)産線。正常情況下(xia)，如果質量合⚽格就(jiù)💜會投入量産線🌍。因(yin)此，有人預測最早(zao)可能在明年上半(ban)年供應。三星電子(zi)和東進半導體目(mù)前都拒絕就本條(tiáo)新聞表态。三星👨‍❤️‍👨電(diàn)子的一位官員表(biǎo)示：“我們無法與合(he)作公司👌确認測試(shi)是否通過。”

 

　　就該消(xiāo)息而言，三星與東(dōng)進半導體研發的(de)EUV光刻膠❓産品隻是(shì)成💋功通過了測試(shì)，距離量産時間還(hai)不确定，但🧡這一消(xiao)息也表明三星已(yǐ)經在EUV光刻膠方面(mian)取得成功，量産将(jiang)隻是時間問題。