導言(yan)：光刻膠(jiao)目前廣(guǎng)泛用于(yu)光電信(xìn)息産業(yè)的微細(xì)圖形🏃🏻♂️線(xiàn)路加工(gōng)制作，光(guāng)刻工藝(yì)的成本(ben)約占整(zheng)個芯片(piàn)制造工(gōng)藝的35%，耗(hao)時占整(zheng)個芯片(piàn)工藝的(de)40%到60%，是半(ban)導體制(zhi)造中的(de)核心工(gong)藝。光刻(kè)膠☁️材料(liao)約🈲占芯(xīn)片制造(zao)材料總(zǒng)成本的(de)4%，是半導(dao)體集成(cheng)電路制(zhì)造的核(he)心材料(liào)。
中國光(guāng)刻膠市(shì)場增速(sù)高于國(guó)際水平(píng)，據前瞻(zhān)産業研(yan)究院數(shù)據，2019年我(wo)國光刻(kè)膠本土(tǔ)供應量(liàng)約70億元(yuán)，自💰2010年起(qǐ)複合增(zeng)速達11%，遠(yuǎn)高于✍️全(quán)球增速(sù)，但本土(tu)供應量(liàng)在全球(qiú)占比僅(jǐn)10%左右，且(qiě)以已經(jīng)實現國(guo)産替代(dài)的主要(yào)是中低(dī)端PCB光刻(ke)膠，LCD和半(bàn)導體領(lǐng)域的光(guang)刻膠自(zi)給率極(jí)低。
光刻(kè)膠是圖(tu)形轉移(yí)介質，其(qi)利用光(guāng)照反應(yīng)後溶解(jiě)度不同(tóng)将掩膜(mo)版圖形(xing)轉移至(zhì)襯底上(shang)，主要由(yóu)感光劑(jì)(光引發(fa)劑)、聚合(hé)劑(感光(guang)♉樹脂)、溶(róng)劑與助(zhu)劑構成(chéng)。
光刻膠(jiao)原材料(liào)主要爲(wèi)樹脂、溶(rong)劑和其(qi)他添加(jiā)劑。其👈中(zhong)溶劑質(zhi)量占比(bǐ)最大，一(yī)般在80%以(yi)上。其他(tā)添加劑(ji)質💚量占(zhan)比雖不(bu)足5%，卻是(shì)決定光(guang)刻膠特(tè)有性質(zhi)的關鍵(jian)🐕材料，包(bao)括光敏(min)劑、表面(miàn)活性劑(ji)等材料(liào)☀️。
在光刻(ke)工藝中(zhong)，光刻膠(jiāo)被均勻(yun)塗布在(zai)矽片、玻(bo)璃和金(jin)👌屬等💞不(bu)同的襯(chèn)底上，經(jīng)曝光、顯(xiǎn)影和蝕(shí)刻等工(gōng)序将掩(yan)膜版上(shang)的圖形(xing)🏃🏻轉移到(dao)薄膜上(shang)，形成與(yu)掩膜版(ban)完全對(dui)應的幾(ji)⭕何圖形(xíng)。
光刻膠(jiāo)可根據(jù)其下遊(yóu)應用領(ling)域分爲(wei)半導體(tǐ)光刻🔴膠(jiao)、面闆光(guang)刻膠和(hé)PCB光刻膠(jiao)三類。
半(ban)導體光(guang)刻膠
目(mu)前，KrF/ArF仍是(shì)主流的(de)加工材(cái)料。光刻(ke)技術随(suí)着集成(cheng)電路的(de)發🆚展經(jing)曆了從(cong)G線（436nm）光刻(kè)，H線（405nm）光刻(ke)，I線（365nm）光刻(ke)，到深紫(zǐ)外線DUV光(guang)刻（KrF248nm和ArF193nm）、193nm浸(jìn)🧑🏾🤝🧑🏼沒式加(jiā)多重成(cheng)像技術(shu)（32nm-7nm），在到極(jí)端紫📱外(wai)線（EUV，＜13.5nm）光🔞刻(ke)的發展(zhan)，甚至采(cǎi)用非光(guāng)學光⭕刻(kè)（電子束(shù)曝光、離(lí)子束曝(pù)光），以相(xiàng)應波長(zhang)爲感光(guāng)波長的(de)各類光(guāng)💁刻膠也(ye)應用而(er)生。
光刻(ke)膠市場(chang)行業集(ji)中度高(gāo)。日本企(qǐ)業在半(ban)導體光(guāng)刻膠領(lǐng)域占據(jù)絕對優(yōu)勢。半導(dao)體光刻(kè)膠主要(yào)生産企(qǐ)業包括(kuo)日本東(dong)京應化(huà)、JSR、住友化(huà)學、信越(yuè)化學；韓(hán)國🚶東進(jìn)世美肯(ken)；美國陶(tao)氏杜邦(bāng)，其中日(ri)本企業(yè)占據約(yue)70%市場份(fèn)額。分産(chan)品看，東(dōng)京應化(huà)在g線/i線(xian)和Krf光刻(kè)膠領域(yu)居龍頭(tóu)地位，市(shì)場份額(é)💜分别達(dá)到27.5%和32.7%。JSR在(zai)Arf光刻膠(jiāo)領❄️域市(shì)占率最(zui)🥵高🐉，爲25.6%。
根(gēn)據富士(shì)經濟預(yu)測，2023年全(quan)球ArF、KrF膠産(chan)能有望(wàng)達到1870、3650噸(dūn)，市場✍️規(guī)模☔近🚶49、28億(yì)元。日本(ben)光刻膠(jiāo)龍頭JSR、TOK包(bao)括光刻(ke)膠在内(nei)♈的業務(wu)毛㊙️利率(lǜ)約40%，其中(zhong)光刻膠(jiāo)原料成(chéng)本約占(zhan)90%。
國内半(ban)導體用(yong)光刻膠(jiāo)生産企(qǐ)業包括(kuò)上海新(xīn)陽、南大(da)光電、晶(jīng)🌂瑞股份(fen)、北京科(kē)華、恒坤(kūn)股份。目(mù)前隻有(you)北京科(ke)華、晶瑞(ruì)股😄份具(ju)備量🔆産(chan)KrF光刻膠(jiao)能力，北(bei)京科華(hua)産品已(yi)爲中芯(xīn)國際供(gòng)貨。上海(hai)新陽在(zai)建的19000噸(dūn)/年ArF（幹法(fa)）光刻膠(jiāo)項目預(yù)計2022年達(da)産。
面闆(pǎn)光刻膠(jiao)
光刻膠(jiao)是LCD面闆(pan)制造的(de)關鍵材(cái)料，根據(jù)使用對(dui)象的不(bú)同，又可(ke)♊分爲RGB膠(jiāo)、BM膠、OC膠、PS膠(jiāo)、TFT膠等。
面(miàn)闆光刻(ke)膠主要(yao)包括TFT配(pèi)線用光(guāng)刻膠、LCD/TP襯(chèn)墊料光(guāng)刻膠、彩(cai)色光刻(ke)膠及黑(hei)色光刻(kè)膠四大(dà)類别。其(qí)中TFT配線(xiàn)用光刻(kè)膠用于(yú)對ITO布🤟線(xiàn)，LCD/TP沉澱料(liao)光刻膠(jiao)用于使(shǐ)LCD兩個玻(bo)璃基闆(pǎn)間的液(yè)晶材料(liao)厚度保(bǎo)持恒定(ding)。彩色光(guang)刻膠及(jí)黑色光(guang)刻膠可(ke)賦予彩(cǎi)色濾光(guang)片顯色(sè)功能。
面(mian)闆光刻(ke)膠市場(chang)需要構(gòu)成穩定(dìng)，彩色光(guang)刻膠需(xu)求量領(lǐng)先，預計(ji)2022年全球(qiu)銷售量(liang)将達22900噸(dūn)，銷售額(e)将達8.77億(yi)美元。
TFT面(miàn)闆用光(guang)刻膠、LCD/TP襯(chèn)墊料光(guāng)刻膠、黑(hēi)色光刻(ke)膠銷售(shòu)額2022年預(yu)⚽計👣分别(bié)達到3.21億(yi)美元、2.51億(yì)美元、1.99億(yi)美元。
根(gen)據智研(yán)咨詢測(ce)算，2020年全(quan)球面闆(pan)光刻膠(jiao)市場規(gui)模将達(da)到🈲167億人(ren)民币，增(zeng)速維持(chi)在4%左右(yòu)。根據我(wǒ)們的測(ce)算，到2025年(nián)光🙇🏻刻膠(jiao)市場♌規(gui)模将達(da)到203億人(ren)民币。其(qi)中，伴随(suí)LCD産業中(zhong)心的轉(zhuǎn)移，我國(guó)LCD光刻膠(jiāo)市場規(guī)模及國(guo)産化率(lǜ)有望🐆逐(zhu)步提升(shēng)。
PCB用光刻(kè)膠
PCB光刻(ke)膠可根(gēn)據塗布(bu)方式分(fen)爲UV固化(huà)油墨和(hé)UV噴塗油(you)墨。目前(qian)👌國内PCB油(you)墨供應(ying)商已逐(zhu)步實現(xiàn)國産替(tì)代，容大(dà)感🌍光、廣(guang)信材料(liào)等企業(yè)已掌握(wò)PCB油墨關(guān)鍵技術(shu)。
國内對(duì)TFT光刻膠(jiao)和半導(dao)體光刻(ke)膠仍在(zai)起步探(tàn)索階段(duàn)。晶瑞股(gǔ)份📞、雅克(kè)科技、永(yong)太科技(ji)、容大感(gan)光、欣奕(yi)華☂️、中電(diàn)❌彩虹、飛(fei)凱材料(liao)在TFT光刻(kè)膠領域(yù)均有布(bù)局，其中(zhong)飛凱材(cai)料、北旭(xu)電子規(gui)劃産能(néng)🈲高達5000噸(dun)/年，雅克(ke)科技通(tōng)過收購(gou)LG化學下(xia)屬彩色(se)光刻膠(jiāo)事業部(bù)💃切入此(ci)市🔅場，在(zài)渠道和(hé)技術方(fāng)面具備(bei)優勢。
光(guāng)刻膠等(deng)技術壁(bì)壘極高(gao)的行業(yè)，實現技(jì)術層面(miàn)的突破(pò)❤️是基礎(chu)⭐、其次，需(xū)不斷改(gǎi)進工藝(yi)，滿足半(bàn)導體行(hang)業快速(sù)發㊙️展的(de)☀️需要。
由(you)于光刻(kè)膠等行(hang)業認證(zheng)時間較(jiào)長，客戶(hù)不會輕(qīng)易更換(huàn)供應商(shāng)，因此進(jin)入主流(liú)供應鏈(liàn)是極其(qí)必要的(de)。國内☁️光(guāng)刻膠生(sheng)🔞産商未(wèi)來有望(wang)把握中(zhong)國半導(dǎo)體行♌業(ye)進口替(tì)代契機(ji)，實現🤩快(kuai)速發展(zhan)。
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